冷原子吸收测汞仪 TD/F732-VJ

  类型：TD/F732-VJ

物品产品编号：TC-003233

• 本仪器内置微机系统，测量与计算功能显著增强，仪器通过液晶屏显示当前状态、测定结果或其它参数，具备打印输出功能。仪器使用方法简便，性能稳定、可靠。
  测定范围:0-10μg/L（高浓度样品可定量稀释后再进行测定）
  检测限:≤0.05μg/L
  线性误差:±10％
  重复性:≤3％
  稳定性:±2个字/3分钟（在A＝0处）
  电源:交流220V/50HZ；功耗:22W
  重量：4.6Kg（净重）
  外形尺寸：368×288×158

冷原子吸收测汞仪 TD/F732-VJ

荧光测汞仪，在吸纳海外新技术应用性的另外，融入我们国家的预期，锐意创新于测汞仪的学习、设计构思、产生已历十几年，产品设备普遍全国的。   
KYA1ZYG-II型自动化冷原子团荧光测汞仪可明确检测法水、大气磅礴、土壤中、矿产、肉商品、海洋生物和女性身体组织机构等图纸中的痕量汞。选用来坏境监测网、肉商品公共卫生、日常自来水、工程工程地质工程地质、中国石油化学厂等部。   
仪器设备显著特点   
a. 定时进液、排液、气路全密闭处理荧光猝灭，延长了敏锐度和固判定。   
b. 标准配置了单支机、会参与数据报告办理，手机数码出现及佳能打印文件机机佳能打印文件机能一起拿到测试软件最终结果。    
     
实验仪器特性:    
A、自行进液、排液、气路全封闭式式管理避免荧光猝灭，增进了精准度度和安全性。   
B、人员配备了单支机、间接做参数治理 ，图文快印提示 及word热敏打印出机word打印出能同時给定zui终各种测试但是。   
C、平均水平：该分析实验室设备经国内场景评估总站测试仪，就分析实验室设备的机灵度、岗位曲线美有关的因子、反复相对标准偏差等技木公式获得的实验结论是“一样测汞仪易于可达到的”。   


技能公式:    
1．查测上限：≤0.01ng/ml    
2．线形关于公式：r＞0.999    
3．相对来说规则偏移：＜4%    
4．自动测量区间：0-10.0µg/L    

5．安稳度：读数漂移≤±2字/三分钟（在A=0处）    
6．精强度：进化弹性系数≤4%    

   
的基本原理：   
舒张压汞灯散发253.7nm谱线，直晒到被测样件转变成的汞蒸汽加热上，汞原子结构放射性物质出荧火，由微电子培增管转变成中国联通号，经图像放大、A/D转变后由单面机去数据统计净化处理、LED表示、缩印出测试仪毕竟。   
测量仪器选用大量的氯化亚锡与样本中的足够想法,其想法式如下所述:   
                 HgCl2+snCl2-SnCl2+Hg(实验室气体)   
   提取的汞蒸气在载气的牵动下,从电子层核嘴中喷射出,容忍由低汞灯发出信号主波长为253.7nm的充分调动采光射,基态汞电子层核被充分调动到大能态,当载入到基态时辐射危害出共震荧光,此荧光经聚光镜把握于光学子增涨管,建立光学子转成,光学子交界扩大(也可以统计仪统计顶值),A/D转成,由统计出来机除理,并可word打印统计出来结局.   
   当汞酸度很低时,荧光抗弯强度与汞酸度呈健康的规则化内在联系,根据要用于痕量汞的参考值检测.   
   需用明确指出的是:受激的汞分子结构拿来自愿地跳到基态而扩散荧光外,也会与蓝本微粒激活而把能量消耗改变为微粒的热移动,所以引发了无荧光扩散的跃迁,大于了荧光程度,这便是分子结构荧光猝灭毛细想象.可能受激汞分子结构与氩气激活的机会比新鲜气氛中的氢气、二被氧化碳、二被氧化碳等小得多，出现的荧光猝灭小得多，于是主要采用氩气作氧气减压阀时用无限流量卡比用氢气时议器准确度度要高得多。一样的地，议器在估测具体步骤中规定要求以免 新鲜气氛进入激活区，以大于所以而出现的荧光毛细想象，提供议器的平衡性。 

产品名称：匀胶显影机 产品型号：SC100-DE

匀胶显影机 型号：SC100-DE
　　SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。 

　　不锈钢外壳比塑料或者烤漆金属更耐久和美观；工业级别200瓦伺服电机系统，采用与track设备相同设计和程序，使您的工艺更具有实际应用意义；同类产品中的大达到50000RPM/S的旋转加速度，确保匀胶和显影的稳定性和高的可重复性。 
主要性能指标： 
主机机箱采用不锈钢材料（抗化学腐蚀易清洁）  
旋涂程序：多可存100组程序，每组100步，每个步骤可精确到0.1秒  
转动速度：0-10,000rpm（更高速可选）  
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空载）  
马达旋涂转速稳定性能误差 < ±1rpm  
转速调节精度<1rpm，重复性< 1rpm  
工艺时间设定： 0-3,000 sec/step，时间设置精度：0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圆晶）  
标准配置两路喷液系统（显影液和去离子水） 



产品特性优点： 
主机在SC100-SE匀胶机上升级，增加耐腐蚀高分子材料防溅式罩盖 

全程序编辑功能，更方便的智能化操作，更好的显影/清洗效果  
可实现多独立四路喷液用于显影/清洗工作，或进行氮气吹干  
控制器可实现程序自动控制喷液或进行手动操作，使用更加方便 

显影系统可进行喷雾式、柱流式多种选择，视要求进行配置  
提供客户定制化的显影系统配置和工装设计  
高可靠性和重复性，高转速精度和更高转速可选  
可添加去边胶和背胶清洗功能